Kursinformation

Lehrinhalte
• Grundlagen der Reinraum- und Vakuumtechnologie
• Materialien der elektronischen und optoelektronischen Bauelemente, Herstellung von Substraten
• Schichtwachstum und Depositionsverfahren
• Lithographieverfahren
• Strukturierung durch Nass- und Trockenätzen
• Kontaktierungen, Verbindungstechnologie, Dotierung, Reinigungs- und Trocknungsprozes-se
• Herstellungsverfahren von typischen elektronischen und optoelektronischen Bauelementen

Literatur
Vorlesungsfolien
Lehrbücher (Menz et al.: Microsystem Technology, Wiley-VCH, van Zant: Microchip Fabrication, McGraw-Hill, Cui: Nanofabrication, Springer)

Voraussetzungen
Empfohlen: Grundlegende Kenntnisse in Optik, Materialwissenschaft und Physik

Weitere Informationen
Studierende sind nach Besuch der Lehrveranstaltung in der Lage
• Materialklassen für bestimmte Anwendungsfälle auszuwählen
• Passende Prozesstechnologien den üblichen Herstellungsverfahren zuzuordnen
• Prozesstechnologien sinnvoll zu kombinieren, um komplexe Strukturen zu erzeugen
• Die Limitierungen und Anwendbarkeit der verschiedenen Verfahren einzuschätzen

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